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  • 202510-16
    真空加熱臺的正確使用與維護

    真空加熱臺作為一種在特定環境下進行樣品處理的設備,其測定步驟和使用注意事項對于保證實驗的準確性和安全性至關重要。真空加熱臺的測定步驟:1.準備工作-設備檢查:確保電源、氣源等連接正常,設備表面干凈整潔無灰塵。同時,檢查相關的配件如探針、電纜等是否完好無損。-樣品準備:將待測樣品進行適當的預處理,例如清理干凈并進行干燥,以防止水分和污物進入爐體內部影響實驗結果或造成設備損壞。2.裝樣操作-小心地將準備好的樣品放入真空加熱臺的腔體內,注意裝入物品量不要超過腔體總容積的2/3,以保...

  • 202510-11
    真空加熱臺可滿足不同材料的處理要求

    真空加熱臺配備有真空系統,通過該系統將加熱室內的氣體抽除,從而創建一個低氣壓或高真空的環境。這一步驟至關重要,因為它消除了氧氣和其他可能干擾加熱過程的氣體成分,減少了氧化反應的風險。在真空環境下,加熱元件開始工作,將電能轉化為熱能。這些熱量直接作用于放置在加熱臺上的物體或樣品,實現對其的均勻加熱。由于沒有氣體分子阻礙熱量傳遞,輻射成為主要的傳熱方式,使得加熱更加準確。與常規加熱設備不同,真空加熱臺中幾乎沒有氣體的對流傳熱現象。這意味著即使物體表面的溫度較高,熱量也不會通過對流...

  • 20259-9
    微型真空探針臺可支持多次重復測試

    微型真空探針臺相較于傳統大型設備,微型化設計大幅降低了體積與重量,便于實驗室靈活配置及移動使用,提升了工作效率。集成化的控制系統簡化了復雜流程,用戶界面直觀易懂,即使非專業人員也能快速掌握基礎操作,降低了技術門檻。采用耐用型高精度金屬針頭,支持多次重復測試而不影響數據穩定性,既節約成本又保障結果可靠性。廣泛應用于物理、化學、材料科學等領域,尤其在集成電路制造過程中發揮關鍵作用,例如檢測芯片內部短路/斷路缺陷,優化半導體器件性能。微型真空探針臺的測定步驟:1.準備工作-設備檢查...

  • 20259-3
    微型真空探針臺的使用注意事項

    微型真空探針臺的核心在于其能夠創造并維持一個高真空狀態的密閉空間(即真空室)。在這一環境中,氣體分子少,有效消除了空氣阻力、振動以及雜質污染等干擾因素,為精密測量提供了理想條件。設備配備由鎢絲或碳纖維制成的納米級探針尖部,這些探針通過機械控制系統實現三維空間內的準確移動。研究人員可借此在芯片或其他微觀樣品表面進行點對點的電學參數采集,如電阻、電流分布等。結合溫控模塊后,該裝置還能模擬特殊的溫度環境(從液氮低溫到數百攝氏度高溫),動態分析材料在不同熱力學條件下的性能變化。微型真...

  • 20258-11
    氣體濕度在各領域中發揮著關鍵作用

    氣體濕度控制憑借科學的原理,在各領域發揮關鍵作用,其諸多優點助力產業升級、成本降低、質量提升,隨著技術發展,未來必將在更多新興領域拓展應用,持續為社會創造更大價值。在眾多工業、科研及日常生活場景中,對氣體濕度進行準確控制至關重要。適宜的氣體濕度不僅能確保生產過程的順利進行、提升產品品質,還能延長設備使用壽命、降低能耗。氣體濕度控制的優點:(一)提高產品質量在電子芯片制造中,嚴格控制氣體濕度可防止芯片表面凝露,避免腐蝕電路、影響光刻精度;食品加工環節,適度濕度控制能防止食品受潮...

  • 20258-4
    氣體濕度控制的兩種基本原理

    氣體濕度控制的兩種基本原理:(一)濕度測量原理1.露點法:通過將氣體冷卻,直至氣體中水蒸氣達到飽和并凝結成露珠,記錄此時的溫度即為露點溫度。利用氣體在露點前后物理性質變化,結合相關公式可計算出氣體濕度。例如,在壓縮空氣系統中,當氣體被逐步冷卻,借助光學傳感器準確捕捉露珠出現瞬間,進而確定露點,為濕度控制提供關鍵數據。2.電容式濕度測量:基于濕敏電容原理,濕敏材料吸濕后介電常數改變,導致電容值變化。通過檢測電容變化量,經校準換算得出氣體濕度。像在一些高精度的半導體制造車間,電容...

  • 20257-8
    金屬磁控鍍膜的相關知識普及

    金屬磁控鍍膜質量高,膜層組織細密,粗大的顆粒少,相比電弧離子鍍膜,其膜層質量更高。并且膜層與基材的結合力強,優于真空蒸發鍍膜,因為磁控濺射鍍膜技術中膜層粒子的能量較高,能夠在基材表面形成更牢固的結合;可以制備多種材料的薄膜,包括金屬、合金、氧化物、氮化物等,滿足不同領域對不同材料薄膜的需求。由于磁場的作用,等離子體的穩定性得到提高,使得鍍膜過程更加穩定,有利于獲得均勻、致密的薄膜;通過調整工藝參數,如電壓、電流、氣體流量、磁場強度等,可以準確控制薄膜的厚度、成分、結構和性能,...

  • 20257-1
    金屬磁控鍍膜是一種物理氣相沉積(PVD)技術

    金屬磁控鍍膜是一種物理氣相沉積(PVD)技術,以下是其基本工作原理:1.濺射基礎:在真空室內,通入惰性氣體(通常是氬氣),并通過電場使其電離,形成等離子體。等離子體中帶正電的氬離子在電場加速下,猛烈地撞擊靶材表面。這些高能氬離子與靶材原子碰撞時,將自身能量傳遞給靶材原子,使靶材原子獲得足夠能量,從而脫離靶材表面,這一過程就叫做“濺射”。2.磁場作用:磁控濺射與傳統濺射的區別,就在于引入了磁場。磁場的存在使得電子在運動過程中受到洛倫茲力的作用,其運動軌跡發生改變,增加了電子的路...

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